PVD的全寫為Physical Vapor Deposition,中文翻譯為物理氣相沉積. 采用陰極電弧等離子體沉積技術。陰極電弧等離子體沉積是相對較新的薄膜沉積技術，它在許多方面類似于離子鍍技術。其優點：在發射的粒子流中離化率高，而且這些離化的離子具有較高的動能（40-100eV)。許多離子束沉積的優點，如提粘著力，增加態密度、對化合物膜形成具有高反應率等優點在陰極電弧等離子體沉積中均有所體現。而陰極電弧等離子體沉積又具有自己一些獨特優點，如可在較多復雜形狀基片上進行沉積，沉積率高，涂層均勻性好，基片溫度低，易于制備理想化學配比的化合物或合金。
   通過蒸發過程將陰極材料蒸發是源于高電流密度，所得到的蒸發物由電子、離子、中心氣相原子和微粒組成。在陰極電弧點，材料幾乎百分百被離化，這里離子在幾乎垂直于陰極表面的方向發射出去，當帶有高能量的鉻離子碰到氮氣后便會馬上產生化學反應，變成氣態的氮化鉻分子了。

氮化鈦百科介紹

由于氮化鈦具有高熔點、高硬度、高溫化學穩定性及優良的導熱性能、導電性能、光學性能、生物相容性，適用于耐高溫、耐磨損、低輻射玻璃涂層及醫學領域。手飾工業上用氮化鈦作金色涂料，主要用于涂表殼。
【熔點（℃）】2950
【性狀】有二氮化二鈦(Ti2N2)和四氮化三鈦(Ti3N4)兩種。二氮化二鈦為黃色固體。溶于煮沸的王水。遇到熱的氫氧化鈉溶液則有氨放出。四氮化三鈦的性質與二氮化二鈦相似。
【制備或來源】可由鈦和氮在1200℃直接反應制得。涂層可由四氯化鈦、氮氣、氫氣混合氣體通過氣相沉積法形成。二氮化二鈦由金屬鈦在900～1000℃的氮或氨中加熱而得。四氮三鈦由四氯化鈦在1000℃的氨中加熱而得。

氮碳化鈦好的介紹

TiCN 具有比 TiN 更低的摩擦系數和更高的硬度 , 鍍了氮碳化鈦的工具更加適合于切割如不銹鋼 , 鈦合金和鎳合金等堅硬材料，更具耐磨性和高溫穩定性，可顯著提高切削工具的壽命。 性質：深灰色粉末。具有較低的內應力，較高的韌性，良好的潤滑性，以及高硬度、耐磨損等特性，適用于要求較低的摩擦系數及較高硬度的場合。

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